内网登录
|
ARP登录
|
邮箱登录
|
中国科学院
|
网站地图
|
联系我们
ENGLISH
首页
所况介绍
机构设置
人才队伍
科学研究
国际合作
研究生教育
所地合作
党建与创新文化
科学传播
信息公开
专利详细信息
专利名称：
一种离子径迹蚀刻长度批量测量方法及系统
专利类别：
发明专利
申请号：
CN202310123214.7
专利号：
申请日期：
2023-02-14
第一发明人：
周月青；李伟星
专利授权日期：
专利证书号：
专利摘要：
